蒸着の仕組みについて

蒸着とは
成膜したい材料(蒸着材料)を蒸発あるいは昇華させて、被蒸着材料(主に硝子やプラスチック等の基板)に堆積させる加工方法の一つです。
加熱方法として、蒸着材料を蒸発あるいは昇華させる手法としては電子ビームや抵抗加熱が使用されます。
蒸着材料に関しまして、低融点の素材から、融点が2000℃以上の物質であっても蒸着するは可能です。
また層数に関しは、単層から100層以上に成膜した製品の製造が可能です。
成膜する際には通常、真空容器にて10-3~10-4Pa程度の真空度にて蒸着されます。
真空にて蒸着する理由は、蒸着材料が大気中の気体分子に阻害されることを防ぐためと、蒸着材料の蒸発温度を下げ、蒸着そのものを容易にするためであります。
他のコーティング法(スパッタ法など)と比べてのメリットは、蒸着材料が少量ですむため、新規蒸着材料でも初期費用が低く、開発や試作に適しています。
弊社には、真空蒸着装置の他、イオンアシストプラズマアシストイオンプレーティングの設備があるため、密着性、緻密性、再現性の効果を高めることが可能です。