プラズマアシスト法
プラズマアシスト(Plasma Assisted Deposition)とは
プラズマ銃により放射される電子によって化学反応が補助される方法です。
プラズマ銃よりチャンバー（※chamber）内に高密度プラズマを発生させると、蒸着材料分子と導入ガス分子（酸素分子、窒素分子など）がイオン化され、反応が促進されます。
また、基板の自己バイアス電位により、イオン分子がチャンバー全域の基板に引き付けられ、大面積で密着性や緻密性の高い膜を生成出来ます。
メリットとしては、ドーム内の屈折率が良いため、大型基板や量産に向いています。
