イオンアシスト法
イオンアシスト(IAD：Ion Assisted Deposition）とは
言葉の通り、「イオンによって補助」される方法です。
イオン銃から基板に照射されるイオン化されたガス分子により、蒸着材料分子を基板に押し付けることが出来ます。
そのため、水分子の入り込む隙間をなくし、密着性、緻密性の高い膜が出来ます。
イオンアシストのメリットとしては、裏面への回り込みが少ないこと、膜のストレス（膜の応力など）が調節出来るということ、ファイバー端面へのコートが可能であることなどが挙げられます。
デメリットとしては、部品が高価なため、維持費がかかることです。
